粉體行業(yè)在線展覽
粉體行業(yè)在線展覽
高能控溫球磨儀 MM 500 CONTROL
直接聯(lián)系
德國Retsch（萊馳）中國總部
上海
面議
Retsch
高能控溫球磨儀 MM 500 CONTROL
399
MM 500Control是一種高能實驗室球磨儀，可用于干磨、濕磨和低溫冷凍研磨，頻率高達30 Hz。這是市場上**臺能夠監(jiān)控研磨過程溫度的混合型球磨機。
溫度范圍為-100至100°C。為了獲得**的靈活性，研磨儀可以使用各種熱流體進行操作，從而能夠使用不同的溫控設(shè)備進行冷卻或加熱。如果選擇液氮冷卻，研磨儀需要配備可選的擴展裝置cryoPad。創(chuàng)新的cryoPad技術(shù)允許為研磨過程選擇并控制-100至0°C范圍內(nèi)的特定冷卻溫度。
**頻率30赫茲
水平振蕩對樣品處理效果有很大的影響
**進料尺寸10毫米,*終出料粒度可達0.1微米（受樣品材料性質(zhì)和儀器配置/設(shè)定的影響而定）
2個研磨工作位，可容納2毫升至125毫升的研磨罐，適配器可容納18 x 2毫升一次性樣品瓶
為了獲得**的靈活性，研磨儀可以使用熱流體或液氮進行加熱或冷卻低溫研磨，溫度調(diào)節(jié)范圍-100°C至100°C，可監(jiān)控研磨過程溫度
GrindControl套裝可測量研磨罐內(nèi)溫度和壓力
RETSCH可提供通氣頂蓋，用于球磨罐中保持特殊氣氛的應(yīng)用
臺面式機器、觸摸屏操作、易夾持研磨罐、研磨罐可以保持夾緊的同時進行二次采樣、可儲存標(biāo)準(zhǔn)操作流程和循環(huán)程序、4種用于干式和濕式研磨的研磨罐材料
高達30HZ的高能球磨，可干磨、濕磨以及冷凍研磨。
使用兩個高達125毫升螺旋鎖緊固研磨罐，實現(xiàn)快速舒適的樣品研磨處理。
**密封流體系統(tǒng)確保熱流體的安全運行
提供多種配件，包括通風(fēng)蓋和無重金屬污染研磨罐（也用于冷凍研磨）
符合人體工學(xué)的研磨罐夾緊，低噪音，通過觸摸顯示屏進行用戶友好的參數(shù)設(shè)置
整個研磨過程中的持續(xù)溫度監(jiān)控
冷卻和加熱范圍從 -?100到 100?°C
操作可使用液氮或其它熱流體
在選擇溫度調(diào)節(jié)裝置（液氮供應(yīng)、低溫恒溫器、冷卻器等）方面具有高度靈活性。
無需液氮也可進行低溫研磨
使用液氮的操作需要擴展裝置cryoPad
調(diào)節(jié)通過熱交換平臺的液氮流量
cryoPad技術(shù)允許使用液氮時，在以下范圍內(nèi)選擇并保持特定的冷卻溫度-?100和0?°C
樣品材料的冷卻和加熱是通過熱交換平臺的**概念實現(xiàn)的，使樣品冷卻，例如，打開液氮浴或干冰浴。對于加熱，研磨罐簡單地放置在熱交換平臺的頂部。當(dāng)研磨罐與熱交換平臺接觸時，熱量通過控溫裝置有效地從研磨罐傳遞或傳遞到研磨罐。獲得**的密封流體設(shè)計，允許使用不同的熱流體操作球磨儀，確保靈活和安全的溫度調(diào)節(jié)，并且用戶只需付出*小的努力。根據(jù)建立的操作設(shè)置，熱交換平臺的溫度可以設(shè)置在-100到+100°C的范圍內(nèi)。
為了控制研磨過程的溫度，需要將球磨儀連接到外部控溫裝置。基本上有兩種選擇：
1.使用液氮進行溫度調(diào)節(jié)
MM500Control連接至液氮罐，并使用液氮運行，在此設(shè)置中，必須使用可選的擴展設(shè)備cryoPad擴展球磨儀。cryoPad的**PID（比例-積分-微分）系統(tǒng)控制液氮流量，從而控制熱交換平臺的溫度。在該設(shè)置中，可以選擇并將熱交換平臺的溫度保持在特定值。所需溫度通過觸摸顯示屏進行調(diào)整，可在以下范圍內(nèi)選擇：-?100至0°C，分10步進行。
設(shè)置1：擴展裝置cryoPad和液氮罐，用于液氮操作。
2.用液體熱流體冷卻或加熱
在此設(shè)置中，球磨儀可以連接低溫恒溫器、水冷機或水龍頭。外部控溫裝置將相應(yīng)的熱流體調(diào)節(jié)至規(guī)定溫度，熱流體將該溫度傳遞至熱交換平臺。在研磨過程中，研磨罐內(nèi)也可能產(chǎn)生大量熱量，熱交換平臺的溫度可以控制。綜上所述，熱交換平臺的實際溫度既取決于熱流體的溫度，也取決于研磨參數(shù)，如頻率、時間、研磨罐體積、研磨球的尺寸。為了**限度地控制研磨過程，觸摸顯示屏?xí)掷m(xù)監(jiān)控交換平臺的實際溫度。
設(shè)置2：使用外部控溫裝置進行操作，例如：水龍頭、冷卻器或恒溫器。
MM 500Control的溫度調(diào)節(jié)是專為處理溫度敏感的樣品材料而設(shè)計的。冷卻或加熱可以實現(xiàn)不同的目的。
可以使用冷凍研磨，例如：
保存溫度性成分（如揮發(fā)性物質(zhì)或藥物和食品成分）
脆化
室溫以下的濕磨
機械化學(xué)
如果樣品材料在加工過程中加熱，某些應(yīng)用會得到改善。加熱的應(yīng)用案例有：
糊料制造（食品工業(yè)）
強化機械化學(xué)反應(yīng)
所需溫度和操作設(shè)置取決于具體應(yīng)用。
如果樣品材料溫度過高，一些分析物會被修改、破壞或蒸發(fā)。如果超過特定溫度水平，例如，蛋白質(zhì)、藥物或食品成分的結(jié)構(gòu)可能會發(fā)生根本性變化。
通過在整個研磨過程中將溫度保持在中等水平，溫敏性天然物質(zhì)被物理保存在其原始狀態(tài)以供分析。
在低溫下研磨咖啡豆以進行天然物質(zhì)分析。
低于0°C的溫度，適用于脆化和均質(zhì)化，例如韌性或粘性食品。如果需要無重金屬研磨，可以使用氧化鋯或碳化鎢罐。
如果冷凍到-?100?°C，也可以成功脆化某些聚合物。
通過將樣品放置于兩個125mL研磨罐中，–?100 °C冷凍脆化，實現(xiàn)黑色氟碳橡膠（FKM）快速研磨粉碎。
如果使用冷水機，則可在30 Hz和低于室溫的條件下進行強力濕磨，而無需考慮任何冷卻中斷。
使用30 Hz和2 x 125 ml研磨罐，濕法研磨過程中TiO2粒度和溫度變化
通過在整個機械化學(xué)過程中冷卻樣品，可以防止不需要的衍生物的形成。也可以應(yīng)用一些加熱，例如啟動化學(xué)反應(yīng)和增加產(chǎn)品產(chǎn)量。
在30Hz下快速形成無孔沸石咪唑鹽框架（ZIF-8）。通過將溫度保持在0°C以下，可以抑制ZIF-8的形成。
By increasing the temperature during synthesis, the yield of a metal organic compound can be increased. ? Stuart James, Queens University Belfast.
可用的研磨罐容積為50毫升和125毫升，材質(zhì)包括不銹鋼、碳化鎢和氧化鋯，確保無污染的樣品制備。 也可在低溫下進行無重金屬研磨。
RETSCH為研磨罐提供了一種特殊的通氣蓋，設(shè)計用于在球磨罐中保持特殊氣氛的應(yīng)用。
The GrindControl measures temperature and pressure inside the jar. The system includes a sensor and transmission unit as well as an analysis software.
多腔罐和適配器
使用多腔瓶和反應(yīng)瓶適配器，可以同時處理多個小樣品。例如，對干制藥、化學(xué)和生物化學(xué)應(yīng)用，這是一個典型的要求。小腔瓶為涉及少量化學(xué)品的機械化學(xué)研究活動提供了新的機會。
罐中的空腔呈橢圓形，確保有效混合。傾倒輔助工具允許安全處理樣品。多腔罐由不銹鋼制成，從而提供有效的熱傳遞到或從樣品。
該適配器*多可容納18個1.5或2.0毫升的一次性反應(yīng)小瓶(例如Eppendorf小瓶)或九個2.0毫升的鋼制管。憑借其兩個研磨站，MM 500控制混合磨機現(xiàn)在可以在一個工作運行中處理多達36個樣品。如果樣品需要冷凍或加熱，應(yīng)使用2.0毫升的鋼制管制備，因為聚合反應(yīng)容器無法在極端溫度下承受機械負(fù)載。適配器由鋁制成，以便有效地將熱量傳遞到和從反應(yīng)管中傳遞。
高能控溫球磨儀 MM 500 CONTROL典型樣品材料
可在有冷卻或無冷卻的情況下使用，因此MM500Control可提供多種應(yīng)用。它可用于均質(zhì)粉碎，例如，廢物、土壤、化學(xué)產(chǎn)品、包衣片、藥物、礦石、谷物、組織、玻璃、頭發(fā)、陶瓷、骨骼、塑料、合金、礦物、油籽、植物、污水污泥、藥丸、紡織品、羊毛等。
高能控溫球磨儀 MM 500 CONTROL作用原理
MM 500Control高能控溫球磨儀的研磨罐在水平位置進行徑向振蕩。研磨球的慣性使其以高能沖擊研磨罐圓形端的樣品材料并將其粉碎。通過在高達30 Hz的高頻下運行，可以實現(xiàn)高能研磨。研磨罐的移動與球的移動相結(jié)合，由于摩擦，進一步增強研磨效果，并促進樣品的有效混合。通過使用幾個較小的球，可以進一步提高混合程度。
| 應(yīng)用 | 機械化學(xué)、機械合金、細(xì)粉碎、混合、均質(zhì)化、低溫研磨 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 農(nóng)業(yè), 化學(xué) / 合成材料, 醫(yī)藥品, 地質(zhì) / 冶金, 工程/電子, 建筑原料, 環(huán)境 / 資源回收利用, 玻璃/ 陶瓷, 生物, 食物 |
| 樣品特征 | 硬的, 中硬性, 軟性的, 脆性的, 彈性的, 含纖維的 |
| 粉碎原理： | 撞擊力，摩擦力 |
| **進樣尺寸 | <= 10 mm |
| *終出料粒度 * | ~ 0.1 μm |
| 批次加料量* | **2 x 45 ml |
| 粉碎腔容積 | **2 x 125 ml |
| 研磨平臺數(shù) (可接納研磨罐數(shù)) | 2 |
| Vibrational frequency | 3 - 30 Hz (180 -1800 min-1) |
| 溫度設(shè)定值的設(shè)置 | 數(shù)字，0 ... -100 °C (僅適用于低溫墊) |
| 設(shè)置樣品冷卻時間 | 數(shù)字式，0 ... 60分鐘（僅與cryoPad一起）。 |
| 粉碎時間設(shè)定 | digital, 10 s - 8 h |
| 總研磨時間： | 99 h |
| 可存儲運行模式 | 12 |
| 可存儲循環(huán)程序數(shù)量： | 4 (**重復(fù)次數(shù)99) |
| 典型粉碎時間 | 30 s - 2 min |
| 干磨 | 是 |
| 濕磨 | 是 |
| 低溫研磨 | 是 |
| 研磨罐種類 | screw-lock jar with integrated safety closure devices, multi cavity jar, adapter for safe-lock reaction vials |
| 研磨套件材料： | 硬質(zhì)剛, 不銹鋼, 碳化鎢, 氧化鋯 |
| 研磨罐尺寸 | 10 ml / 25 ml / 50 ml / 80 ml / 125 ml |
| 電源數(shù)據(jù)： | 100-120 V, 50/60 Hz; 200-230 V, 50/60Hz |
| 電源接頭： | 單相 |
| 防護類型 | IP 30 |
| 接受功率 | 750瓦 |
| 機體尺寸（寬x高x縱深） | 690 x 375 x 585 mm |
| W x H x D與cryoPad封閉。 | 690 x 485 x 585 mm |
| 凈重 | ~ 63 kg |
| 標(biāo)準(zhǔn) | CE |
| 連接螺紋尺寸設(shè)備輸入。 | G 1/4" (內(nèi)螺紋) |
| 連接螺紋尺寸的管子組。 | G 3/8" (外螺紋) |
| 允許的工作壓力 冷卻裝置（由客戶提供）。 | 0 ... 5 bar |
| 連續(xù)冷卻裝置的典型壓力范圍，如低溫恒溫器。 | 1 ... 2 bar |
| LN2供應(yīng)的允許壓力范圍。 | 1.2 ...1.4 bar |
| 允許的流體。 | 水、水-甘醇混合物、導(dǎo)熱油、液氮 |
| 熱應(yīng)用。 | 灌注、冷卻、加熱、溫度控制 |
| 液體的溫度范圍。 | +100 °C ... -196 °C |
| 冷卻板的溫度范圍。 | +100 °C ... -100 °C |
受樣品材料性質(zhì)和儀器配置/設(shè)定的影響
| 應(yīng)用 | 用液氮進行低溫研磨 |
| 串行接口 | RS-232 (MM 500 control) |
| 通信連接。 | 通過附帶的連接電纜 |
| 電源。 | 通過外部電源 |
| 供電數(shù)據(jù)（輸入外部電源）。 | 100-230V, 50/60 Hz |
| 外部電源分類。 | Medical grade isolation level |
| 供電數(shù)據(jù)（輸入低溫墊）。 | 24 V, 1 A |
| 附件： | LN2 Autofill 150L, LN2 Autofill 50L |
| LED狀態(tài)燈。 | 是 |
| 機體尺寸 (寬x高x縱深) | 670 x 110 x 590 mm |
| 凈重 | ~ 26 kg |
| 標(biāo)準(zhǔn) | CE |
| 連接螺紋尺寸設(shè)備輸入 | G 1/4" (內(nèi)螺紋) |
| 不銹鋼管適配器的連接螺紋尺寸 | UNF 3/4" |
| LN2供應(yīng)的允許壓力范圍。 | 1.2 ...1.4 bar |
| 允許的流體。 | 液氮 |
| 排放物。 | 液氮氣體，冷凝 |
| 連接。 | 通過附帶的管子套件 |
| 排氣口。 | 通過附帶的排氣適配器和鋁制波紋管 |
| 液體的溫度范圍。 | -196 °C |
| 溫度控制算法。 | PID溫度控制 |
| 溫度設(shè)定值的設(shè)置 | digital, 0 ... -100 °C |
| 設(shè)置樣品冷卻時間 | digital, 0 ... 60 min |
