粉體行業(yè)在線展覽
Q-roy
5-10萬(wàn)元
日本進(jìn)口IMT
Q-roy
105
Φ25mm、30mm、40mm
多種應(yīng)用領(lǐng)域:適用于金相分析、材料科學(xué)等領(lǐng)域的樣品制備,能夠滿足不同工藝要求
研磨量可設(shè):可以為三個(gè)樣本中的每個(gè)樣本設(shè)置Z軸(高度)方向上的研磨值,磨削值可以以1μm為單位設(shè)置,并且在達(dá)到磨削值時(shí)自動(dòng)停止。
誤差補(bǔ)償功能:由于盤的跳動(dòng)和拋光的彈性,會(huì)發(fā)生磨削錯(cuò)誤。它具有補(bǔ)償功能,可以通過(guò)預(yù)先輸入圓盤表面的跳動(dòng)來(lái)校正磨削誤差。
時(shí)間模式拋光:您還可以執(zhí)行時(shí)間控制的拋光,并且可以在一個(gè)過(guò)程中編程兩個(gè)變更階段。
自動(dòng)磨料滴落:加上“自動(dòng)磨滴裝置”,無(wú)需操作員的幫助即可進(jìn)行自動(dòng)拋光。
大按鈕觸摸屏:配備大按鈕觸摸屏和便捷的模擬按鈕,易于操作。
單個(gè)負(fù)載拋光:即使在一項(xiàng)測(cè)試達(dá)到磨削設(shè)定值之后,其余兩個(gè)樣品的磨削值也可以繼續(xù)進(jìn)行而無(wú)需重置。
多樣品處理:樣品數(shù)為Φ25mm,30mm,40mm x 6,Φ50mmx 3,可滿足不同尺寸樣品的拋光需求。
高精度拋光盤:提供多種尺寸的高精度拋光盤,如Φ223mm或Φ200mm等。
可調(diào)節(jié)的旋轉(zhuǎn)速度:圓盤旋轉(zhuǎn)速度為50-300 rpm(可在正向和反向之間切換),支架旋轉(zhuǎn)速度為50-200 rpm。
可調(diào)節(jié)的加壓力:?jiǎn)蝹€(gè)負(fù)載的加壓力為5到30 N / 1個(gè)樣本。
無(wú)刷電機(jī):機(jī)頭配備60W無(wú)刷電動(dòng)機(jī),底座配備120W無(wú)刷電動(dòng)機(jī),確保設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定。
氣源要求:氣源要求為0.5-0.7Mpa,0.7Mpa或更高需要一個(gè)單獨(dú)的調(diào)節(jié)器。
多種應(yīng)用領(lǐng)域:適用于金相分析、材料科學(xué)等領(lǐng)域的樣品制備,能夠滿足不同工藝要求
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