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應用范圍：

各種樣品中低含量、微量和痕量的金屬元素，以及部分非金屬元素的定性和定量分析；

尤其適合分析樣品量大，分析結果要求高的用戶；

可廣泛應用于 石油、化工、冶金、鋼鐵、地質、農業、環保、水質、食品、藥品、疾控、材料、質檢等行業

技術特點：

超高的分辨率+優異的光學性能

　PlasmaQuant 9100光學分辨率可達3pm，達到譜線自然寬度水平，因此即便面對復雜的基體樣品，也可輕松應對光譜干擾。同時，PlasmaQuant 9100采用原裝的卡爾蔡司光學系統，保證了160nm-900nm波長連續全覆蓋和優于0.0004nm的波長準確度。

高分辨率可在**范圍內提供**的分辨率的分析譜線，特別適合各種復雜樣品的檢測，提供準確的分析結果，讓分析工作變得更為簡單高效。

增強型雙向觀測技術

　　一次進樣4種觀測方式，沒有濃度斷檔，無需分組或稀釋，可滿足不同濃度（ppb-%）的同步測量，為所有元素和濃度提供*合適的觀測和測量方式，滿足所有應用要求。

*強勁穩定的等離子體激發系統

　　PlamaQuant 9100高分辨率ICP-AES配備高能量、高穩定的等離子體激發系統，可從容應對*復雜基體樣品的測定，顯著擴大測試的應用范圍。同時由于儀器在復雜基體中可獲得極低的檢出限和樣品允許使用更少的前處理步驟，使得測試結果更加精準、方法穩定性更佳，測試效率大大提高。滿足省時：開機即測(5分鐘)；省氣：無需提前和延時吹掃，所有吹掃氣體和冷卻氣體都將引入等離子氣充分利用；省事：高濃鹽、有機樣、高低濃度一次完成測定。　　

　 直觀的軟件界面，智能的背景扣除技術

　　Aspect PQ軟件控制、監控和記錄整個PlasmaQuant 9100系統的所有過程，模塊化設計簡潔，提供**的操作靈活性。

ABC背景校正技術，軟件可自動精確扣除背景，消除人為誤差，保證數據準確，可重現性好。

CSI，先進的光譜建模扣背景技術，可將樣品基體的精細結構背景，在測量時通過模型進行扣除，得到測試元素本身的譜圖，還原譜線本真模樣。

人性化設計 — 即開即測，操作便捷、維護簡單

* 即開即用 — 高性能新一代CCD檢測器

* 省時省氣 — 測試結束即可關機，深紫外區元素無需長時間提前吹掃

* 實時自檢系統 — 全方位保障，使您安心

* 組合式炬管 — 高靈活性，降低成本

* 卡插式設計 —自動準直，1分鐘即可完成安裝

PlasmaQuant 9100是工業等許多應用領域分析的有利幫手，可揭示樣品的*小細節，助您在質量控制、成分分析和過程控制方面大有所為！