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E5000發射光譜儀具有全譜多元素同時分析、分析速度快、分析準確、穩定性好等優點，E5000發射光譜儀擁有高功率數控電弧光源、全自動激光對準的光源裝置、穩定可靠的帕型-龍格全譜分光系統以及陣列CCD全譜測量技術，同時，E5000發射光譜儀結合時序分析、光譜自動校正等先進技術，采用固體樣品直接進樣的方法，全面解決了傳統技術分析繁瑣、效率低下、準確性差等問題，是光譜元素分析領域的重大突破。E5000發射光譜儀產品結構設計

E5000發射光譜儀產品結構設計

●電弧發射光譜技術與全譜直讀光譜技術結合，新一代固體粉末分析技術

● Paschen-Runge（帕型-龍格）全譜光學系統，能測定需要分析的所有常規元素

●緊湊的小型臺式設計，確保穩定可靠、易用便捷

●防溢出CCD高速數采系統，信噪比高、動態范圍大

●高功率數控可編程光源，電流、電壓、頻率可控，提供更優的分析方法

●多重連鎖和監控，確保操作安全可靠

●全自動電極激光對準系統

●粉末樣品直接進樣，方便迅速

●一鍵激發，立刻獲得分析結果

●內置工作曲線，客戶無需手動建線，切實提高工作效率

●軟件開放所有高級功能，為客戶提供**的方法開發平臺

E5000發射光譜儀全譜測量技術

●全譜平臺擁有豐富的譜線信息，更易于元素擴展與方法開發

●基于全譜測量的數據，能夠正確區分背景和譜線，有效提高測量精度

- 方便查看譜線及干擾情況

- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式

●自動譜線去干擾算法

- 通過算法扣除干擾譜線獲得干凈的待分析譜線

- 基于全譜測量數據的多峰擬合技術可將譜線完全分開，有效消除譜線的干擾

●根據元素的含量范圍選擇不同的分析譜線，大含量范圍的測量更準確

- 多譜線結合，擴展分析范圍的同時，有效保證分析精度

- 避免靈敏線飽和，不需要消釋樣品，取得更大的分析范圍

背景扣除 多峰擬合 適配曲線

CCD高速數采系統

●防溢出線陣CCD

●采用動態積分，有效擴展CCD的動態范圍

Paschen-Runge（帕型-龍格）全譜光學系統

● 恒溫型全固定光學系統

● 全反射式光路

● 光室結構緊湊

● 一體式固定

● 光學器件少，性能穩定

● 基于CCD的全譜采集和分析

電弧數控光源

●數控光源體積小、效率高

●基于數控可編程技術，光源的電流、電壓、頻率可調節

●分析不同含量的元素，選擇激發參數，降低元素分析的檢出線，改善元素分析的準確度

●可設置及讀取不同檢測階段的數據

一鍵激發及全自動對準電極

●樣品裝載激發一氣呵成，方便快捷

●多元素同時分析，直接得到*終結果

●設計精良的電極挾持旋鈕

●紅外激光對準、先進的電極激光自動對準技術

●水冷電極夾提高檢測穩定性

多重連鎖和安全保護

●可靠的水冷系統，分別對電弧光源和激發電極散熱

●實時監控儀器的運行狀態，所有的連鎖狀態如冷卻水、排風、炬室門等都通過界面和指示燈等多種形式直接提醒

●界面上有關鍵溫度的顯示，優先查看儀器的運行情況

●排風監控，消除廢氣影響

●特殊的風道設計提高穩定性

分析軟件

●便捷易用的分析軟件

- 操作直觀、便捷、層次化的軟件界面，非專業人員也能方便操作

- 簡單的方法開發過程，各種檢測條件都可調節

軟件界面

●強大的多元素分析平臺

- 便捷的全譜查看

- 多元素分析及多譜線選擇

- 一鍵激發，直接在軟件上得到分析結果

- 豐富的方法庫有利于方法的傳承、學習和維護

可分析元素及多譜線選擇

●全面智能的軟件算法

- 內置工作曲線，完善的時序分析，能夠實現定性、定量分析

- 豐富的處理技術，支持內標法、基底扣除、干擾元素校正等分析方法

- 處理功能，為客戶帶來全面、準確的分析體驗

E5000發射光譜儀內置工作曲線及基底扣除

● 智能漂移校正技術

利用全譜豐富的譜線信息，自動完成儀器校正，使得分析數據更穩定

E5000發射光譜儀技術參數