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上市時間：2020年1月

1、獨立雙光室，確保所有分析譜線都獲得**分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的專用光學系統。一個光室精確測量波長從120到240納米（nm）;另一個光室，波長范圍從210到800納米（nm）。 兩個光室都采用先進的CMOS檢測器，具備恒溫裝置和壓力補償功能 2、等離子發生器數字光源和點火板 可靠的新型高能LDMOS等離子發生器光源，為SPECTROLAB S 輸出超級穩定的火花放電，頻率**1000 Hz。結果：*短的測量時間（例如：分析低合金鋼小于 20 秒）。該系統還允許特定應用的火花參數設置，以優化分析性能。 3、精密氬氣控制系統 SPECTROLAB S 采用全新程控流量。軟件根據分析程序精密設置氬氣流量。節約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花臺，無需管道連接。避免漏氣。 4、火花臺清理間隔大大延長 堅固的陶瓷內芯避免積塵粘附。流暢的氣路設計確保了*少的粉塵殘留（使得清理間隔時間延長了8倍）；對于大樣品量輸出的全自動光譜儀系統尤為重要。 5、快速讀出系統 斯派克的GigE創新讀出系統確保海量數據的極速處理，從而支持**的儀器性能表現。實現了獨特的全光譜范圍譜圖記錄。 6、超低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術，在關鍵元素的檢測限方面，超越光電倍增管技術的性能。通過配置**參比通道，工作曲線可以**程度獲得優化。可以快速定量分析ppm量級的高純金屬或合金中的痕量元素。