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主要適用于SiC/GaN等各類器件的高溫退火活化工藝。

設備特點

◎ 型號:Activate 150

◎ 工藝溫度:1800℃~2050℃

◎ 工藝氣體:H?/N?O/NO/O?/Ar?/N?

◎ 工藝壓力:1*10-3mbar

◎ 晶圓尺寸:≤150mm

◎ 產能:25或50 片/批

◎ 正常UP Time:98%

◎全自動化系統和MES服務

產品優勢

◎ 高溫退火活化工藝時間約4小時

◎ 工藝室具備DCE自清洗功能

◎ 良好的溫度均勻性和厚度均勻性