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特點：

·易于安裝

·基于視窗結構的軟件，很容易操作

·先進的光學設計，以確保能發揮出好的系統性能

·基于陣列設計的探測器系統，以確保快速測量

·獨特的光源設計，有著較好的光源強度穩定性

·有四種方法來調整光的強度：

§ 通過電源的調節旋鈕來調節電源輸出的大小

§ 在光輸出端口濾光槽內調整濾光片來調整

§ 調整光束大小

§ 通過TFProbe軟件，在探測器里調整積分時間

·可測量5層的薄膜厚度和折射率

·在毫秒的時間內，可以獲得反射率、傳輸率和吸收光譜等一些參數

·能夠用于實時或在線的厚度、折射率測量

·系統配備大量的光學常數數據及數據庫

·對于每個被測薄膜樣品，用戶可以利用先進的軟件功能選擇使用NK數據庫、也可以進行色散或者復合模型（EMA）測量分析；

·可升級至MSP（顯微分光光度計）系統，SRM成像系統，多通道分析系統，大點測量。

·通過模式和特性結構直接測量。

·提供的各種配件可用于特殊結構的測量，例如通過曲線表面進行縱長測量。

·2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數據管理界面。

系統配置：

· 型號：SR100R

·探測器： 2048像素的CCD線陣列

· 光源：高穩定性、長壽命的鹵素燈

·光傳送方式：光纖

·臺架平臺：特殊處理鋁合金，能夠很容易的調節樣品重量，200mmx200mm的大小

· 軟件：TFProbe 2.2版本的軟件

· 通訊接口：USB的通訊接口與計算機相連

· 測量類型：薄膜厚度，反射光譜，折射率

· 電腦硬件要求：P3以上、50 MB的以上空間

·電源：110–240V AC/50-60Hz，1.5A

· 保修：一年的整機及零備件保修

規格：

· 波長范圍：250nm到1100 nm

· 光斑尺寸：500μm至5mm

· 樣品尺寸：200mmx200mm或直徑為200mm

· 基板尺寸：zui多可至50毫米厚

· 測量厚度范圍：2nm到50μm

· 測量時間：zui快2毫秒

· 精度：優于0.5％（通過使用相同的光學常數，讓橢偏儀的結果與熱氧化物樣品相比較）

· 重復性誤差：小于1Ǻ

應用:

· 半導體制造（PR，Oxide， Nitride..)

· 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..）

· 醫學，生物薄膜及材料領域等

· 油墨，礦物學，顏料，調色劑等

· 醫藥，中間設備

· 光學涂層，TiO2， SiO2， Ta2O5... ..

· 半導體化合物

· 在MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜

· 非晶體，納米材料和結晶硅