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產品概述

大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs， InGaAs，CdTe， CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs， InGaAs，CdTe， CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

測量范圍: 1 nm -20um(UVVis)，1nm-150um(UVVisNIR)

波長范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis)

200nm-1700nm(UVVisNIR)

適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層， 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy， Tauc-Lorentz， Cody-Lorentz， EMA等；

藍寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率，波長范圍(200-1700nm)：