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這種原理有以下幾點(diǎn)優(yōu)勢：

　　分辨率高：

　　CPS高精度納米粒度分析儀同激光散射和顆粒計(jì)數(shù)法等方法比較，該方法有非常高的分辨率。對于只有 1%的顆粒差異分布的時(shí)候，該方法測定的結(jié)果仍然有好的分離效果。您能看到的是顆粒分布本身，而不是分布顆粒的混合圖。

　　靈敏度高：

　　低至 10-8 g 的樣品就可以滿足日常分析需要。

　　重復(fù)性高：

　　樣品結(jié)果在95%的典型置信度下，連續(xù)重復(fù)分析峰的重復(fù)性小 于+/-1% 或更好。

　　快速、高精度數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換:

　　可用信號分辨率(即軟件操作的對象)決定于  數(shù)模轉(zhuǎn)換的過程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模  轉(zhuǎn)換  可以實(shí)現(xiàn)在每秒31次取樣時(shí)保持20位以上的精  度，幾百萬分之一的誤差。

CPS高精度納米粒度儀的技術(shù)優(yōu)勢：

CPS納米粒度分析儀分辨率很高，它有效地結(jié)合了高速離心沉降(ZG24000轉(zhuǎn)/分)和激光法的優(yōu)點(diǎn)，使得整個(gè)儀器能夠達(dá)到極高的分辨率，優(yōu)良的靈敏度和重復(fù)性.

CPS高精度納米粒度分析儀同激光散射和顆粒計(jì)數(shù)法比較，該方法有非常高的分辨率，能夠輕松鑒別雜質(zhì)顆粒，污染顆粒或者外來顆粒。半峰寬為峰值粒度 1%，也就是說對于峰值差異只有1%的相鄰粒度兩個(gè)粒度峰，該儀器都可以有效地檢測并區(qū)分開來。儀器的分辨率如此高，得到的顆粒分布幾乎不受儀器的影響，測量終得到的是真實(shí)、可靠的顆粒分布。

　　極高的靈敏度, 低于10-8 g 活性樣品可以得到，少可以分析小于毫克乃至微克級的樣品。

　　高度可重復(fù)性的樣品結(jié)果; 連續(xù)重復(fù)分析峰的重復(fù)性小于±1% 或更好。

　　連續(xù)的離心操作；在分析連續(xù)樣品的時(shí)候，不需要儀器停止來清洗，需要極少的人工。

CPS高精度納米粒度分析儀和傳統(tǒng)沉降法比較，更快的分析時(shí)間。速度的優(yōu)勢是基于更快的圓盤轉(zhuǎn)速以及更快的儀器檢測器響應(yīng)。采用多階速度，分析速度可以小于通常情況下的1/20。