粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500
直接聯系
中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司
遼寧
面議
沈陽科學儀器
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500
1100
真空室結構:
方形前開門
真空室尺寸:
φ500x500x500mm
產品概述：
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業**的軟件控制系統。
設備特點：
本設備是一個鍍膜平臺，可把磁控靶拆下換電子槍成為電子束鍍膜系統、或換蒸發源作為熱蒸發系統、或換上離子槍作為離子束鍍膜系統等。
設備用途：
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
高真空釬焊爐設備--QHL550
小型超高真空退火爐
大型高真空退火爐
碳化硅晶體生長爐
導模法藍寶石晶體生長爐
泡生法藍寶石晶體生長爐
雙側無油渦旋泵
渦旋干式真空泵
螺桿干式真空泵JLG-1100A
羅茨干式真空泵GH-80A
金屬有機源氣相沉積系統--MOCVD
高真空硬碳膜制備系統--FHL600
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
合金分析儀
TZ-517D
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
EXAKT 80E
NJ-80型
