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二氧化鈦研磨分散機

CMD2000/4

直接聯系

上海依肯機械設備有限公司

德國

產品規格型號
參考報價:

10-20萬元

品牌:

IKN

型號:

CMD2000/4

關注度:

3428

范圍(量程或細度):

0-10微米

創新點:

縮短工藝時間。IKN高剪切乳化分散設備可以迅速地混合分散二氧化鈦粉末,并消除結塊和團聚。IKN也提供PLD和PLC粉體/液體混合機,將粉體直接加入液體,無需循環處理,一次性通過便可成型。

應用行業:

二氧化鈦的混合、研磨、分散

典型用戶:

上海 江西

產品介紹

【產品名稱關鍵詞】二氧化鈦研磨分散機,二氧化鈦分散難點,二氧化鈦研磨設備,二氧化鈦分散設備,IKN研磨分散機

【IKN工業設備用于二氧化鈦分散和研磨的優點】

一、縮短工藝時間。IKN高剪切乳化分散設備可以迅速地混合分散二氧化鈦粉末,并消除結塊和團聚。IKN也提供PLD和PLC粉體/液體混合機,將粉體直接加入液體,無需循環處理,一次性通過便可成型。

二、提高品質。IKN高剪切混合機可以打碎結塊粉體,并與液體充分混合。這樣可以改善產品光澤和透明度,這兩個特征由分散好壞直接決定。

三、減少資金投入。IKN磨機可以**程度縮小粒徑,達到窄粒徑分布。IKN分散研磨設備的流量比同類研磨設備高出很多,但也可達到相類似的效果。模塊化設計的IKN 2000系列產品,可以幫助客戶節約資金投資。

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【IKN研磨分散機的簡介】

CMD2000系列研磨分散設備是IKN(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)


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【CMD2000系列研磨分散機的結構】


研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。


**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
                          
二氧化鈦研磨分散機

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產品是很重要。

磨頭.jpg


【CMD2000系列研磨分散機的特點】

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。


【CMD2000系列研磨分散設備選型表】

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2.處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產品的要求。

3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。

4.本表的數據因技術改動,定制而不符,正確的參數以提供的實物為準.
 

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二氧化鈦研磨分散機

CMD2000/4

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