粉體行業(yè)在線展覽
QL-100
5-10萬元
摩克立
QL-100
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內(nèi)襯陶瓷
氣流磨粉碎碳化硅可精準控制粒度在3~100微米(d97),粒型好、分布窄,適合高要求場景。流化床氣流磨無內(nèi)襯磨損、清潔環(huán)保且高效節(jié)能,通過優(yōu)化工藝參數(shù)可適應不同硬度原料。
氣流磨粉碎碳化硅的粒度范圍
典型粒度:流化床氣流磨粉碎碳化硅的粒度分布集中,無過粉碎現(xiàn)象,粉碎細度通常可達d97: 3~100微米。
粒型與分布:粉碎后的碳化硅粒型好,粒度分布窄,適合對粒度要求較高的應用場景。
影響粉碎粒度的因素
設備類型:
流化床氣流磨:通過高壓氣體加速物料顆粒,在噴嘴射流的交匯點發(fā)生沖擊碰撞實現(xiàn)粉碎,粉碎能力強,粒度控制精準。
扁平式圓盤氣流磨:通過噴射旋流粉碎室并帶動物料做循環(huán)運動,顆粒與機體及顆粒之間產(chǎn)生相互沖擊、碰撞、摩擦而粉碎,但粒度控制可能略遜于流化床氣流磨。
工藝參數(shù):包括氣流壓力、噴嘴速度、分級器轉(zhuǎn)速等,這些參數(shù)直接影響粉碎效率和粒度分布。
原料特性:碳化硅的硬度、純度等特性也會影響粉碎效果。一般來說,硬度越高、純度越高的碳化硅越難粉碎,但氣流磨通過優(yōu)化工藝參數(shù)仍可實現(xiàn)高效粉碎。
氣流磨粉碎碳化硅的優(yōu)勢
無內(nèi)襯磨損:流化床氣流磨無需內(nèi)襯即可研磨各種硬度的產(chǎn)品,機件磨損率低,適合長期連續(xù)生產(chǎn)。
清潔環(huán)保:全系統(tǒng)密閉粉碎,粉塵少,噪音低,生產(chǎn)過程清潔環(huán)保。
高效節(jié)能:氣流磨由氣體提供的能量幾乎全部用在短程加速物料上,粉碎能力強,能耗相對較低