粉體行業在線展覽
DYNO?-MILL NPM Pilot
60-70萬元
WAB
DYNO?-MILL NPM Pilot
17377
優勢
適用于通道模式和循環模式操作,效率穩定,可實現最窄粒度分布
采用優質陶瓷,使用壽命長,無金屬污染
高效的能源輸入,能耗低
適用于小批量生產,冷卻性能理想,可加工對溫度敏感的產品
操作簡單,可記錄運行數據并保證重現性
只需少量清潔劑即可輕松清洗
操作簡便,運行和維護成本低
研磨腔的低間隙設計
DYNO?-MILL NPM(納米性能研磨機)用于微米和納米范圍內 低粘度至粘性產品的連續分散和濕法研磨。
獨特的研磨介質分離系統可使用 0.05 至 0.2 毫米的超小型研磨介質,而獲得**的 DYNO?加速器即使在很高產量下也能確保穩定的工藝運行。
分散珠磨機有一個自帶驅動裝置的動態旋轉研磨介質分離系統。這樣就可以分兩步完成工藝的調整。分離系統的線速度可確保研磨介質與待磨物料的安全分離。主軸的線速度可獨立于分離系統根據研磨任務的需要進行調節。
憑借獨特的**研磨原理,DYNO?-加速器,以*窄的粒度分布達到**的產品質量,細度范圍小于100納米。DYNO?-加速器可確保研磨介質的強力液壓運動,并保證高效均勻的能量輸入以及溫和的加工,適用于從低粘度到高粘度的產品。
優勢
適用于通道模式和循環模式操作,效率穩定,可實現非常窄的粒度分布
采用優質陶瓷,使用壽命長,無金屬污染
高效的能源輸入,能耗低
適用于小批量生產,冷卻性能理想,可加工對溫度敏感的產品
操作簡單,可記錄運行數據并保證重現性
只需少量清潔劑即可輕松清洗
操作簡便,運行和維護成本低
研磨腔的低間隙設計
DYNO?-MILL RL
T2GE
UBM 20
UNI LAB
WAB IMPA°CT REACTOR?化學反應器
AP10
ECM-AP 05
ECO5
DYNO?-MILL KD系列
DYNO?-MILL NPM Pilot
DYNO?-MILL MULTI LAB
dyna-MIX? CM 1000