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簡介

美國應用光譜公司 (Applied Spectra Inc.)專注研究激光剝蝕和光譜分析技術的高技術公司。 研發人員均為美國勞倫斯伯克利國家實驗室的研究人員。 公司總裁Richard Russo 博士為美國勞倫斯伯克利國家實驗室的資深科學家， 從事激光剝蝕及激光光譜元素分析技術三十多年， 創造性的將激光剝蝕技術 (Laser Ablation， LA) 及激光誘導擊穿光譜 (Laser Induced Breakdown Spectroscopy， LIBS)相融合， 研發了J200系列激光剝蝕進樣系統及光譜分析系統。

J200 納秒激光剝蝕進樣及激光誘導擊穿光譜復合系統實現了LIBS與LA-ICP-MS的同時測量，并具備多種測量功能： 可測量常量， 微量和同位素 (與ICP-MS串聯)；分析有機元素及輕元素； 元素三維空間分布；校正ICP-MS質譜信號。主要用于地質礦物，土壤，植物，合金，新能源材料 (例如鋰電池材料)， 刑偵證據等樣品的剝蝕進樣及化學成分分析。

J200 LA 激光剝蝕進樣系統可與市面上的四級杠質譜儀， 飛行時間質譜儀和高分辨質譜儀串聯使用。

J200 LA 激光剝蝕進樣系統特色

高穩定Q開關， 短脈沖Nd:YAG 激光 ，可選擇多波長 < 5 nsec at 213 nm ，創新的模組化設，為獨立 LA， LIBS， LA - LIBS 復合的系統設計 ，因分析需求，提供三種LIBS 檢測器選擇 ，激光剝蝕均勻且一致性的LA系統

自動樣品高度調整功能

J200激光剝蝕進樣系統采用ASI**技術：剝蝕導航激光和樣品高度自動調整傳感器相結合，解決了若樣品表面凹凸不平而剝蝕不均、導致元素含量值誤差大的問題；激光能量穩定閥確保了到達樣品表面的激光能量均勻，使所有采樣點的激光燒蝕均勻一致；3-D全自動操作臺**行程可達100mmx100mmx36mm，XY行程分辨率0.2μm，Z行程分辨率0.1μm， 優于其它任何同類產品

穩定激光能量的光閘設置

高分辨雙CMOS相機系統， 可用于寬視野觀測樣品表面特征 應用光譜公司的 Flex 樣品室內置氣體模組可優化氣流和顆粒清潔能力，滿足不同測量要求，先進的微集氣管設計，可盡可能的減少排氣，防止集結剝蝕顆粒，消除記憶影響。

雙通道高精度質量流量控制器和電子控制閥

Axiom LA 軟件系統

軟件可整合控制硬件組件及ICP-MS 同pu步操作，輕松實現繁雜的激光采樣與分析模式 ，強大的數據分析工具用于繁雜的 LA-ICP-MS 串聯光譜分析

靈活的分析方法：全分析，夾雜物分析，斑點分析，深度分析和元素分映像

維護成本低

可擴充升級LA – LIBS 復合系統

可擴充升級飛秒 LA 系統