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應用領域

應用于光學元件、晶體及金屬和玻璃材料的研磨拋光，也可用來研磨拋光特殊材料 ，諸如硅、硒化鋅、砷化鎵的后道拋光。

白色阻尼布拋光墊：
具有**的相互連接的微孔結構，在進行粗拋光處理時能具備優(yōu)異的去除率、拋光穩(wěn)定性和耐磨性。可配合研磨拋光液系列產品配套使用，用于對陶瓷、砷化鎵、磷化銦、硬盤、光學玻璃、金屬制品、藍寶石襯底晶片、碳化硅晶片等材質或工件的粗拋或中拋，以獲得沒有缺陷的晶片表面。

白色拋光皮的優(yōu)勢：
1）去除率高，質量穩(wěn)定，耐磨性好；
2）具有中柔軟度和彈性，能有效避免劃傷；
3）表面絨毛間隙可以儲存大量的拋光液，提高拋光效率；
4）背膠易撕，不留殘膠，使用方便。
使用說明：
1. 撕離拋光皮背面離型紙，將拋光皮均勻貼附于機臺操作面，注意不要留有氣泡；
2. 配合氧化鋁或氧化硅系列研磨液使用；
3. 每次使用完畢請及時用清水清潔。
黑色阻尼布拋光墊
具有**的相互連接的微孔結構，在進行拋光處理時能具備優(yōu)異的拋光穩(wěn)定性/耐磨性。可配合研磨拋光液系列產品配套使用，適用于晶片、藍寶石、石英、玻璃、金屬、陶瓷的高平坦化超精密拋光，拋光后精度可達0.0002，可至**的鏡面效果。

黑色拋光皮的優(yōu)勢：
1）質量穩(wěn)定，耐磨性好；
2）具有良好的柔軟度和彈性，能有效避免劃傷；
3）表面絨毛間隙可以儲存大量的拋光液，提高拋光效率；
4）背膠易撕，不留殘膠，使用方便。
使用說明：
1. 撕離拋光皮背面離型紙，將拋光皮均勻貼附于機臺操作面，注意不要留有氣泡；
2. 配合氧化鋁或氧化硅系列研磨液使用；
3. 每次使用完畢請及時用清水清潔。