粉體行業(yè)在線展覽
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真空等離子清洗機(jī)
直接聯(lián)系
深圳市科偉達(dá)超聲波設(shè)備有限公司
廣東
面議
科偉達(dá)
真空等離子清洗機(jī)
1430
主要用途：
清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
清洗生物芯片、微流控芯片。
清洗沉積凝膠的基片。
高分子材料表面修飾。
牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
適用氣體：
壓縮空氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕狻⒕O(shè)置有壓力表；
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真空等離子清洗機(jī)
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