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窯爐設備>
>CVD 化學氣相沉積回轉爐 動態旋轉式沉積設計
GZ-CVD
直接聯系
陜西罡正窯爐科技有限公司1
咸陽
10-20萬元
64
CVD (化學氣相沉積)回轉爐是一種用于材料表面改性和薄膜沉積的高端設備,廣泛應用于半導體、新能源、陶瓷、粉末冶金等領域。通過化學氣相沉積技術,可在材料表面形成均勻、致密的薄膜,提升材料的性能。
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BTF-1200C-III-150-CVD
三溫區真空氣氛回轉爐CVD系統CVD1200C 900D60III R 3ZLV
TFR-1200-30-220
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