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技術介紹：系統采用雙傳感器設計，可在石墨盤旋轉同時進行整個石墨盤的漫反射率、鏡面反射率及發射率二維分布Mapping 測量；

原理用途：物體的發射率與物體的表面狀態(包括物體表面溫度、表面粗糙度、面形以及表面氧化層、涂層、缺陷、殘留物、表面雜質等)有關。所以，通過對石墨盤各個點發射率的測量可以直接反映出石墨盤表面肉眼難以觀測到的表面細節，同時基于黑體輻射原理進一步評估石墨盤表面溫度的分布情況。這對有效控制器件的質量，以及優化生長工藝有極大的幫助。

技術指標及特點：

1. 掃描尺寸：700mm；

2. 適配石墨盤：大部分商用石墨盤；

3. 掃描分辨率：徑向分辨率0.05mm，角度分辨率0.1°，用戶可自定義；

4. 掃描時間：10 分鐘（465mm 尺寸的石墨盤，以徑向1mm，角度0.1°測量）；

5. 測量光點尺寸：2mm

6. 光源波長：940nm 或660nm（可選）；

7. 鏡漫反射率分辨率：±0.005；鏡漫反射率準確度：±0.01；發射率分辨率：±0.01；發射率準確度：±0.02；

8. 系統為離線測量設備，便于石墨盤的裝卸。軟件操作簡單，專為操作員及工程師設計；