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ES01是針對科研和工業環境中薄膜測量推出的高精度全自動光譜橢偏儀，系列儀器的波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。

ES01系列光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數（如，厚度）和物理參數（如，折射率n、消光系數k），也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。

ES01系列光譜橢偏儀適合于對樣品進行實時和非實時檢測。

特點：

• 原子層量級的檢測靈敏度

  國際先進的采樣方法、高穩定的核心器件、高質量的設計和制造工藝實現并保證了能夠測量原子層量級的納米薄膜，膜厚精度達到0.05nm。

• 秒級的快速測量

  快速橢偏采樣方法、高信噪比的信號探測、自動化的測量軟件，在保證高精度和準確度的同時，10秒內快速完成一次全光譜橢偏測量。

• 一鍵式儀器操作

  對于常規操作，只需鼠標點擊一個按鈕即可完成復雜的測量、建模、擬合和分析過程，豐富的模型庫和材料庫也同時方便了用戶的高級操作需求。

應用：

ES01系列尤其適合于科研和工業產品環境中的新品研發。

ES01系列多種光譜范圍可滿足不同應用場合。比如：

• ES01V適合于測量電介質材料、無定形半導體、聚合物等的實時和非實時檢測。
• ES01U適合于很大范圍的材料種類，包括對介質材料、聚合物、半導體、金屬等的實時和非實時檢測，光譜范圍覆蓋半導體的臨界點，這對于測量和控制合成的半導體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量級到10微米左右）。

ES01系列可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數k。應用領域包括：微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁介質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。典型應用如：

• 半導體：如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）；
• 平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；
• 功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；
• 生物和化學工程：有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理、液體等。

ES01系列也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。應用領域包括：固體（金屬、半導體、介質等），或液體（純凈物或混合物）。典型應用包括：

• 玻璃新品研發和質量控制等。

技術指標：

注：(1)測量重復性：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續測量30次所計算的標準差。