粉體行業(yè)在線展覽
槽式濕法清洗設(shè)備
面議
盛美半導(dǎo)體
槽式濕法清洗設(shè)備
982
小尺寸,高產(chǎn)能
先進的IPA干燥方式
工序可靈活編輯
無盒式(No-Cassette)50片晶圓批次處理
節(jié)能減排,降低成本
配備先進的IPA干燥槽
配備穩(wěn)定的晶圓傳輸系統(tǒng)
模塊化設(shè)計,可客制化組合選配
可選配一體式清洗模塊(多種化學(xué)藥水與純水在同一槽中進行工藝)
可選配兆聲波清洗
電鍍設(shè)備X
單片清洗設(shè)備
Post-CMP清洗設(shè)備
無應(yīng)力拋光設(shè)備
濕法去膠設(shè)備
濕法刻蝕設(shè)備
顯影設(shè)備
涂膠設(shè)備
電鍍設(shè)備A
PECVD設(shè)備
前道涂膠顯影設(shè)備
立式爐設(shè)備