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傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩模板需要由專業(yè)供應商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩模板的設計通常需要經(jīng)常改變。激光直寫光刻技術通過以軟件設計電子掩模板的方法，克服了這一問題。與通過

物理掩模板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦軟件控制，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案，無需掩膜工序。

絕大多數(shù)利用電子束刻蝕制造的器件只有很小的一部分結(jié)構(gòu)需要用到電子束刻蝕的高分辨率，而大部分曝光時間都浪費在了如電極連接等大面積結(jié)構(gòu)的生成上。Microtech可以被用在混合模式刻蝕工藝上：只用費用昂貴、速度緩慢的電子束刻蝕加工*細小的結(jié)構(gòu)，用成本低廉的Microtech加工大面積部分。Microtech先進的對準機制可以使兩部工序**結(jié)合。因此Microtech也適用于已經(jīng)擁有電子束刻蝕的實驗環(huán)境。

Microtech是直寫刻蝕領域知名的品牌，其**技術和穩(wěn)定系統(tǒng)源自美國麻省理工**的林肯國家實驗室，LW405系列轉(zhuǎn)為科研實驗室和小型超凈室設計開發(fā)的多功能光刻系統(tǒng)，適用于快速微納米加工和小規(guī)模生產(chǎn)，除了可達到超高分辨的線寬外，其穩(wěn)定性和多功能性也得到業(yè)界的一致認可和好評。Microtech做為世界上*早研發(fā)激光光刻技術的供應商，打破了以往的激光直寫設備高昂價格壁壘，使得研究人員可以理工與傳統(tǒng)光刻機相當?shù)某杀就瓿筛哽`活性的激光直寫光刻工藝。

Key Features:

• 標準405nm光源， 可選第二個光源375nm用于SU8(266nm等其他激光可選)

• 自動聚焦Autofocus， 基底表面粗糙跟蹤功能

• 每像素256灰階光刻功能

• 超高定位精度激光干涉樣品臺，基底2寸， 4寸， 6寸， 8寸和14寸 (可到800mm)

• 用于多層套刻功能和Front-back校準對齊功能

• 4種可選規(guī)格線寬分辨率可到0.5um到0.7um

• 標準用于4個不同分辨率和刻寫速度的可自動轉(zhuǎn)換讀寫頭

• 直寫基底：硅， GaAs， InP， 玻璃， 微波， Cryogenic低溫， 生物基板

• 激光刻寫圖形可使用在不平或傾斜樣品上

• 四種刻寫模式：Beam， Stage scan， Vector， Contour