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為滿足納米級電子束曝光系統(tǒng)的需求，北京金竟科技有限責(zé)任公司**推出自主研發(fā)的Pharos Ex圖形發(fā)生器系統(tǒng)。圖形發(fā)生器是電子束曝光系統(tǒng)的核心部件，采用現(xiàn)場可編程邏輯門陣列器件（FPGA）作為核心處理器，將矢量圖形數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為電子束曝光數(shù)據(jù)，通過優(yōu)化設(shè)計的數(shù)模轉(zhuǎn)換電路，將數(shù)字量轉(zhuǎn)化成高精度的模擬量，驅(qū)動掃描電鏡的掃描偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)偏轉(zhuǎn)電子束進行多路徑掃描。

圖形發(fā)生器對標(biāo)準(zhǔn)樣片進行圖像采集，完成寫場的線性畸變校正（掃描場增益、旋轉(zhuǎn)和位移校正）。圖形發(fā)生器控制束閘的通斷，配合高精度X-Y納米位移臺，可實現(xiàn)寫場的拼接及套刻，拼接及套刻精度優(yōu)于100 nm。

技術(shù)參數(shù)

(1)圖形拼接精度：≤±100 nm（含有高精度位移臺）；

(2)圖形套刻精度：≤±100 nm（含有高精度位移臺）；

(3)掃描速度：**至20 MHz；

(4)線寬測量：根據(jù)SEM類型，優(yōu)于50nm（場發(fā)射掃描電鏡）；

(5)配置高精度壓電位移臺；

(6)可選配電子束束閘及其控制器，信號開關(guān)速度優(yōu)于50ns。