粉體行業(yè)在線展覽
經(jīng)濟型臺式磁控濺射系統(tǒng)
面議
重慶眺望
經(jīng)濟型臺式磁控濺射系統(tǒng)
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主要特點
經(jīng)濟型臺式濺射系統(tǒng)
可集成5個1.5英寸共濺射靶
向上或向下濺射
沉積均勻性+1-2.5% @ 3"(75mm)基片
選配load-lock預(yù)真空室
基片加熱溫度850℃℃,旋轉(zhuǎn)速率0-40rpm,直流和射頻偏壓,50mmZ軸可調(diào)工作距離··真正的共焦沉積系統(tǒng),滿足單層和多層薄膜沉積應(yīng)用
可集成4路MFC氣路,可進行反應(yīng)濺射
計算機控制或半自動控制
高真空或超高真空
定制5臺機連體配套
SEM5000X
防爆觸摸屏/防爆電腦/防爆電腦
金屬回收系統(tǒng)
DLabs-MRS
熱風(fēng)循環(huán)烘箱CT-C系列
自動吸盤振動器離心式G08T
低溫催化LCO
干燥機控制
智能控制系統(tǒng)
PicoFemto掃描電鏡原位光電力一體化系統(tǒng)
BSD-TD-K氣體置換法