粉體行業(yè)在線展覽
粉體行業(yè)在線展覽
G1000
直接聯(lián)系
廈門韞茂科技有限公司
福建
面議
韞茂科技
G1000
4072
可實現(xiàn)高精度納米級薄膜包覆改性，專門為粉體材料研發(fā)制造，目前已廣泛應(yīng)用于鋰電池正負極改性/催化劑改性/量子點/熒光粉等領(lǐng)域
原子層沉積（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。
產(chǎn)品描述
廈門韞茂科技公司的GM系列自動粉末原子層沉積設(shè)備它可以在微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長，GM1000的反應(yīng)室可自動運行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積)，設(shè)備配有獨立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻。該系統(tǒng)具有**粉末樣品桶、動態(tài)粉末流化機構(gòu)、全自動溫度控制、ALD前驅(qū)體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現(xiàn)場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設(shè)計選項。是先進能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應(yīng)用的**研發(fā)工具。
主要技術(shù)參數(shù)
G100 Powder ALD 技術(shù)參數(shù) Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制備） | |
| 樣品**裝載量 Capacity | 100g(可根據(jù)需求定制, 也可放置3D基體及多片平片 |
| 樣品反應(yīng)溫度 Heating | RT-300℃ |
| 前驅(qū)體 Max Precursor | **可包括2組反應(yīng)氣體 8組液態(tài)或固態(tài)反應(yīng)前驅(qū)體, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors |
| 前驅(qū)體加熱**溫度 Max Precursor Heating | RT-200℃ |
| 包覆均一性 Uniformity | <3% |
| 成膜速率 Deposition Rate | 1-2A/Cycle (Al2O3) |
| 臭氧發(fā)生器Ozone Generator | 可選配，生產(chǎn)效率15g/h |
| 人機界面 HMI | 全自動化人機操作界面 |
| 安全Safety | 工業(yè)標準安全互鎖Industry Safety Interlock，報警Alarm，EMO |
G1000 Powder ALD 技術(shù)參數(shù) Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制備） | |
| 樣品**裝載量 Capacity | 1000g(可根據(jù)需求定制, 也可放置3D基體及多片平片 |
| 樣品反應(yīng)溫度 Heating | RT-300℃ |
| 前驅(qū)體 Max Precursor | **可包括2組反應(yīng)氣體 8組液態(tài)或固態(tài)反應(yīng)前驅(qū)體, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors |
| 前驅(qū)體加熱**溫度 Max Precursor Heating | RT-300℃ |
| 包覆均一性 Uniformity | <3% |
| 成膜速率 Deposition Rate | 1-2A/Cycle (Al2O3) |
| 臭氧發(fā)生器Ozone Generator | 可選配，生產(chǎn)效率15g/h |
| 人機界面 HMI | 全自動化人機操作界面 |
| 安全Safety | 工業(yè)標準安全互鎖Industry Safety Interlock，報警Alarm，EMO |
