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|  應用領域
       應用于碳化硅（SiC）、藍寶石（Sapphire）、氮化鎵（GaN）、陶瓷、MEMS、光學產品等材料的加工。

|  適用范圍
? 陶瓷盤尺寸：Φ305mm、Φ360mm、Φ485mm（可兼容）
? 產品尺寸：2、4、6寸（可兼容） 
? 研磨效率：約2um～3um/min（具體視工藝而定）
? 清洗效率：約2min/盤（具體視工藝而定）
? 清洗液溫度：40℃（具體視工藝而定）