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產品簡述

• 該研磨液配方及生產工藝具備研磨液在高強度機械摩擦中:

• 分散穩定性高、效率高，產品加工后表面光滑、平整、且加工成本低

• 工藝簡單、利于工廠的批量生產

• 增強了各種復合組分的密切接觸與相互作用

• 充分發揮各組分協同增效功能

• 使粗磨液性能更優良的優點碳化硅研磨液分析。

產品概述

該研磨液配方及生產工藝具備研磨液在高強度機械摩擦中:
分散穩定性高、效率高，產品加工后表面光滑、平整、且加工成本低
工藝簡單、利于工廠的批量生產
增強了各種復合組分的密切接觸與相互作用
充分發揮各組分協同增效功能
使粗磨液性能更優良的優點碳化硅研磨液分析。

應用領域

在碳化硅半導體的制備過程中，晶圓襯底制造作為占據總成本的40%，是至關重要的一項工藝。在半導體晶圓襯底制造過程中，切割磨拋工序是不可或缺的環節之一,它是將硅晶圓切割成較薄的片狀，然后進行研磨和拋光，以獲得所需的平整度和表面光潔度。

產品特點

一種用于碳化硅晶片加工的粗磨液，其是由金剛石團聚磨料和丙三醇構成。

• 本發明的粗磨液配合有多邊形溝槽的塑膠墊使用

• 可以替代傳統的鑄鐵盤碳化硼粗磨工藝。

• 采用本發明低濃度的粗磨液即可達到比高濃度碳化硼粗磨液更好的使用效果

• 減少了后道工序的加工時間，同時產生的廢液非常少，對環境影響小。

• 本發明的粗磨液是一種消耗少、環境友好的新型研磨材料。

鑄鐵盤 + 單晶4um研磨加工面型數據

產品規格及驗證參數