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儀器簡介：

• 化學分析用全自動掃描X-射線光電子能譜儀

• 180°半球型電子高分辨率能量分析器以及適用于小面積分析的大角度電子接受系統

• ****的32通道檢測器和快捷的電子系統用于獲得**的靈敏度和數據采集

• 掃描單色聚焦9umX射線源用于快速化學狀態圖像

• 自動雙束荷電(電子束和低能Ar離子束)補償系統

送

• 全自動5軸(X， Y， Z， 旋轉，傾斜)，精密樣品臺 樣品臺可以準確地移動到100mm直徑樣品的任何一點

• 計算機控制的100 V到0. 5 kV氬離子槍用于樣品表面清洗以及深度剖面分析（包括Zalar Rotation功能）.

• 在做角分辨XPS分析時候可以自動選擇大小接受角度

• 具有所有分析功能包括低分辨全范圍定性分析， 高分辨定量/化學狀態分析， 深度剖面分析，線掃描分析， 化學狀態圖像分析，自動分析和用戶自己設定分析。

• PC 計算機RAM為1 Gb，硬盤為160 Gb， 軟盤， 可讀寫CD 以及彩色顯示器

• 數據處理功能強，如去除本地，平滑化處理， 峰識別， *小二乘法擬合， 多因子分析法，峰分離，從圖像，線掃描以及深度剖析分析中抽出多種化學狀態峰

• UHV可兼容不銹鋼分析室

• 360 l/s離子本泵（帶有鈦升華泵），自動烘烤系統

• 操作說明書和維修手冊，工具箱.

• 軟件MS Office Professional (英語版).

• 操作用椅

• 操作桌子

• 打印機

注: Ulvac-phi將不提供噴墨打印機但是在出廠前將通知所用噴墨打印機型號。

技術參數：

聚焦掃描式微區X射線光電子能譜儀

技術資料

設備規格以及供貨范圍

A. 技術指標

B. 安裝設置要求

C. 供貨范圍

設備型號 PHI Quantera SXM

設備商標Scanning X-ray Microprobe™

生產地點 日本和美國

檢測項目 指標值

系統到達真空 <5x10-10 torr

Ag樣品XPS光電子能量分辨率 Ag 3d 5/2 峰半高寬 FWHM < 0.50 eV

PET 樣品XPS光電子能量分辨率 C1s的O=C-O峰半高寬 FWHM < 0.85 eV

*小X射線斑束 <9.0μm 在x 方向

<9.0μm 在y 方向

常用X射線斑束

<10.0 μm @ <1.25 watts

<15.0 μm @ <2.50 watts

<20.0 μm @ <4.50 watts

X-ray XPS靈敏度和能量分辨率 X-ray Beam Energy Sens. Size Res.

> 15kcps <10.0 μm <0.60 eV

> 30kcps <15.0 μm <0.60 eV

> 55kcps <20.0 μm <0.60 eV

> 35kcps <10.0 μm <1.00 eV

> 70kcps <15.0 μm <1.00 eV

> 125kcps <20.0 μm <1.00 eV

>3Mcps High <1.30eV Power Mode

離子槍 **電流 >5.0 μA @ 5 kV

離子槍工作時候分析室內壓力 < 5x10-8 torr

主要特點：

B: 供貨范圍

PHI Quantera SXM Scanning XPS Microprobe

化學分析用全自動掃描X-射線光電子能譜儀

• 掃描單色聚焦9umX射線源用于快速化學狀態圖像

• ****全自動快速進樣系統 75mm方形樣品臺，自動數碼照相定位系統，自動樣品臺進樣和傳