粉體行業在線展覽
鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200
面議
北京泰科諾
鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200
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1. 技術先進、設計優化,性價比高,性能穩定,使用維護成本低。
2.大面積,復合型,批量制備,潔凈真空不同功能復合涂層制備,可獲得更高電池轉換效率。
3.廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池及復合功能薄膜材料制備等應用。
設備名稱:鈣鈦礦大面積蒸發設備
設備型號:ZDF3200(單片/多片)
鍍膜方式:線源蒸發
真空腔室結構:臥式方箱結構
真空腔室尺寸:L810mm×W700mm×H670mm(鍍膜室)
極限真空:優于5.0x10-?Pa
基片臺尺寸:330mm×420mm
基片溫度:80℃以下
膜厚不均勻性:≤±5.0%(330mmx420mm范圍內)
蒸發源:高低溫線性蒸發源
膜厚監控系統:國產或進口多探頭(可選)
控制方式:PLC + 觸摸屏控制
占地面積:L3200mm×W2000mm×H1800mm
總功率:≥40KW
納米超硬膜涂層設備GDM1000
納米超硬膜涂層設備GDM900
粉體鍍膜設備JGCF1000
粉體鍍膜設備JGCF800
粉體鍍膜設備JGCF350
真空退火爐/釬焊爐VTHK550
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP500 高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500
高真空電子束蒸發鍍膜設備TEMD600
電阻蒸發鍍膜設備ZHDS500
電阻蒸發鍍膜設備ZHDS400
電阻蒸發鍍膜設備ZHD600
電阻蒸發鍍膜設備.