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電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHDS500
面議
北京泰科諾
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHDS500
136
設(shè)備型號:ZHDS500
鍍膜方式:金屬 + 有機(jī)蒸發(fā)
真空腔室結(jié)構(gòu):SUS304 方箱式,配有前、后門
真空腔室尺寸:L500mmxW500mmxH650mm
加熱溫度:室溫-300℃(選配)
基片臺尺寸:抽屜式:220mmx220mm可旋轉(zhuǎn)、升降、水冷
膜厚不均勻性:≤±5.0%(220mmx220mm范圍內(nèi))
蒸發(fā)源:金屬/有機(jī)4-6組
晶振膜厚監(jiān)控儀:國產(chǎn)或進(jìn)口(可選)
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可選 )
占地面積:L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套箱 )
總功率:≥12kW 三相五線制
1. 技術(shù)先進(jìn)、設(shè)計優(yōu)化,性價比高,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;
2. 廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機(jī)太陽能電池等各種膜層的制備;
如:鈣鈦礦層、電子傳輸層及背電極等膜層的制備
納米超硬膜涂層設(shè)備GDM1000
納米超硬膜涂層設(shè)備GDM900
粉體鍍膜設(shè)備JGCF1000
粉體鍍膜設(shè)備JGCF800
粉體鍍膜設(shè)備JGCF350
真空退火爐/釬焊爐VTHK550
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP500 高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備TEMD600
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHDS500
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHDS400
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHD600
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備.
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037