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CVD 真空化學氣相沉積設備
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沈陽威泰科技發展有限公司
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CVD 真空化學氣相沉積設備
2205
CVD 真空化學氣相沉積設備詳情
CVD設備適用于熱絲法化學氣相沉積金剛石，采用鎢絲/鉭絲作為加熱器，加熱分解碳物質，激活化學氣相反應，制備金剛石膜。
安裝形式 | 立式 |
加熱器分布方式 | 圓周分布 |
加熱器材質 | 鎢絲/鉭絲 |
保溫材料 | — |
MAX溫度 | 3000℃ |
控溫精度 | ±1℃ |
均溫性 | ±5℃ |
極限真空度 | 5×10-4Pa |
均溫區尺寸 | 按客戶要求定制 |
控制方式 | 自動/手動 |
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