粉體行業(yè)在線展覽
Radiation 全光譜橢偏儀
面議
質(zhì)朋儀器
Radiation 全光譜橢偏儀
651
規(guī)格 | 技術(shù)指標 |
襯底類型 | 透明或半透明襯底 |
光源 | 氙燈 |
光源壽命 | >8760H |
光譜范圍 | 300-1000nm |
入射角 | 70度(40度-90度 每5度可調(diào)) |
光斑直徑 | 100x120μm(Min80x100um) |
測量時間(不對焦) | <2S(單層模型),<約6s(多層模型) |
膜厚測量范圍(單層膜) | 1nm-15μm |
對焦 | 自動訊號對焦 |
膜厚測量精度 | <0.5nm(基于標片) |
折射率測量精度 | <0.005(基于標片) |
厚度重復性精度: | <0.5A(1 sigma 標準差,10times)(基于標準片) |
折射率重復性精度: | <0.0005(1 sigma標準差,10times)(基于標準片) |
可測試膜層數(shù)量 | ≥2層 |
標片數(shù)量 | 2片 |
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KOSAKA 真圓度儀
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