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Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能

Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè)，并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償，以保證曝光分辨率。

光學(xué)輪廓儀

Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向**精度100 nm，方便快捷。

標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別

點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。

直寫前預(yù)檢查

軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面，并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過實(shí)時(shí)調(diào)整位置、角度，直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫準(zhǔn)確。

簡(jiǎn)單的直寫軟件

MicroWriter 由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。

Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件

? 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件（DXF， CIF， GDSII， 等）

? 可以直接讀取TIFF， BMP 等圖片格式

? 書寫范圍只由基片尺寸決定

Microwriter ML3

基本型

增強(qiáng)型

旗艦型

**樣品尺寸

155×155×7mm

155×155×7mm

230×230×15mm

**直寫面積

149mm x 149mm

149mm x 149mm

195mm x 195mm

曝光光源

405 nm LED 1.5W

405 nm LED 1.5W

385 nm LED 適用于SU-8

（365+405nm雙光源可選）

直寫分辨率

1μm

1μm and 5 μm

0.6μm， 1μm， 2μm， 5μm

直寫速度

20mm²/min @ 1μm

20mm²/min @ 1μm

120mm²/min @ 5μm

25mm²/min @ 0.6μm

50mm²/min @ 1μm

100mm²/min @ 2μm

180mm²/min @ 5μm

對(duì)準(zhǔn)顯微鏡鏡頭

x10

x3 and x10 自動(dòng)切換

x3， x5， x10， x20 自動(dòng)切換

多層套刻精度

±1μm

±1μm

±0.5μm

*小柵格精度

200nm

200nm

100nm

樣品臺(tái)*小步長(zhǎng)

100nm

100nm

50nm

光學(xué)輪廓Z分辨率

無(可升級(jí))

300nm

100nm

樣品表面自動(dòng)對(duì)焦

是

是

是

灰度直寫(255級(jí))

是

是

是

自動(dòng)晶片檢查工具

無(可升級(jí))

有

有

溫控樣品腔室

無(可升級(jí))

無(可升級(jí))

有

氣動(dòng)減震光學(xué)平臺(tái)

無(可升級(jí))

無(可升級(jí))

有

光刻膠上的圖形

Au電極（SEM）

Au電極（SEM）

設(shè)計(jì)圖

光刻膠上的圖形

放大圖的顯微結(jié)構(gòu)