粉體行業在線展覽
面議
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2溫區高真空MEMS焊封機
具有高可靠性的密封(可達到 10- 6 hPa)
MEMS器件可以在2個不同溫度加熱區進行工藝,溫度差可高達450°,也可Getter 激活前密封
可以加工6MEMS平行工藝焊封(**6個適配器每個直徑14mm)
在真空中的溫度升率:35 K /M
PID 控制器允許多達20個程序,每個程序可100個步驟存儲
USB接口可以方便編程和存儲無限程序。過程數據可以記錄并保存
開放視窗結構允許連續監測/觀看的過程
該系統使用與小量和概念MEMS,相比其他系統是一個低成本的解決方案
應用:
焊縫MEMS微機械系統
吸氣劑活化
兩溫區熱處理工藝
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037