粉體行業在線展覽
面議
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M-Spin 200勻膠旋涂儀是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑**為8英寸的晶圓片,或為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作,分配移動托盤,可定義數量。該勻膠旋涂儀配備了頂蓋的聯鎖機制,和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂儀包含一個內置模塊,該模塊連接到柔性電纜,外接到一個19英寸外部控件上。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037