粉體行業在線展覽
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桌面式磁控濺射設備—MS-200
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合肥致真精密設備有限公司
安徽
面議
致真精密
桌面式磁控濺射設備—MS-200
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MS-200磁控濺射設備是一款小型臺面式濺射系統，具有高真空、單原子層沉積精度的特點，可以靈活選擇陰極向上或向下濺射。設備標配1個2英寸超高真空陰極。滿足簡單的材料研究需求。
晶圓尺寸 | 4inch向下兼容 |
鍍膜均勻性 | 優于±2% |
極限真空 | 1×10-8mbar |
溫控 | RT-800℃ |
陰極數量 | 3個2inch靶頭共焦濺射 |
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發源
圓形互聯設備（外置機械臂、內置機械臂）
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