粉體行業(yè)在線展覽
氮化鎵(GaN)HVPE單晶生長設(shè)備 立式
面議
山東力冠
氮化鎵(GaN)HVPE單晶生長設(shè)備 立式
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產(chǎn)品特點/Product Characteristics:
? 基礎(chǔ)工藝包
Basic process package
1.氮化鎵(GaN)單晶生長尺寸: 2英寸
Gallium nitride (GaN) single crystal growth size: 2 inches
2.單晶生長速率:≥50微米/小時
Single crystal growth rate:≥50 microns/hour
3.藍寶石襯底外延生長氮化鎵(GaN)單晶層厚度: < 200微米
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037