粉體行業在線展覽
水平LPCVD氣相沉積
面議
華旗科技
水平LPCVD氣相沉積
628
配套工藝:
多晶硅P-Si,氮化硅Si3N4,氧化硅SiO2
磷硅玻璃PSG,硼磷硅玻璃BPSG
TEOS,LTO,HTO,SIPOS...
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037