粉體行業(yè)在線展覽
面議
953
介紹:
M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑**為8英寸的晶圓片或**6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺。工藝參數(shù)(溫度,加熱時間)可以隨時更改。 熱板溫度可在20°C和250C之間調(diào)節(jié)。可在1到999秒之間設(shè)置處理時間。
產(chǎn)品參數(shù):
• 型號:M-HP 200 Hotplate熱板
• 處理尺寸:直徑**8英寸晶圓片或**6 英寸x6英寸基板
• 溫度范圍:20°C至250°C可調(diào)
• 功率:600瓦
• 加熱時間:從1到9999秒
• 熱板表面安全蓋材質(zhì):不銹鋼
• 不帶蓋的熱板尺寸:約350mm x 350mm x 200mm
• 控制器的尺寸:約135mm x 145mm x 95mm
• 臺式柜的尺寸:約 460mm x 360mm x 325mm
• 重量:約200磅
主營產(chǎn)品:
Laurell勻膠機
Harrick等離子清洗機
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺
ALD原子層沉積系統(tǒng)
TRION反應(yīng)離子刻蝕機
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機
Novascan紫外臭氧清洗機
Nilt納米壓印機
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
Wabash/Carver自動壓片機
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037