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全自動大尺寸光刻機

直接聯系

科睿設備有限公司

韓國

產品規格型號

參考報價：

面議

關注度：

1189

產品介紹

MIDAS SYSTEM公司開發并生產用于半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業領域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國**家研發并商業化光罩對準曝光機的企業，始終致力于不斷完善、增強技術型企業的核心競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業化的設計團隊，以客戶需要為己任，生產、供應滿足國內外企業、科研院所不斷增長的應用需求，并且提供半導體工藝相關的設備需要。

MDA-12SA型曝光機是一款MIDAS公司新開發的產品，代表了下一代全區域光刻系統。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產能力和容易操控。

■ Auto Exposure / Alignment System

■ 2~6 inch wafer process

■ Interface between Aligner and Robot : RS-232C

■ Auto Loading and Unloading Using Double Robot Arm

■ Auto-Alignment with Vision System

■ Pre-Alignment and Automatic Positioning

■ Anti-Vibration Table

■ Dual CCD Auto zoom Microscope ? Variable Magnification : Max. 1400x

■ 17inch LCD touch monitor

■ Wedge Error Compensation

■ Throughput :Alignment : 120WPH PSS， First layer : 170WPH

	Item	Specification
Exposure System	Lamp Power	350W UV Lamp(OSRAM)
	Resolution	0.8um (Vacuum contact)
	Beam Uniformity	≤ ± 5% (6inch standard)
	Intensity	20~25mW/cm2:350~450nm
	Adjustable Exposure Time	0.1 to 999.9 sec
Alignment System	Alignment Accuracy	1um
	Alignment Gap	20 to 200um
	Pre-Alignment Accuracy	± 50um
	Process Mode	Vacuum， Hard， Soft Contact and Proximity
	Process Mode	*Proximity Gap is 20um to 200um
	Proximity Adjustment	adjustable 1 micron increments Program Control System
	Throughput	>120 wafer/hour (Auto alignment) 170 wafer/hour (PSS， First layer)
Sample	Substrate	2 ~ 6 inch
Sample	Mask Size	3 ~ 7 inch
Utilities	Vacuum	> 650mmHg
	CDA	> 6Kg/cm2
	N2	> 4Kg/cm2
	Electricity	220V， 30A， 1Phase
	Monitor	Touch LCD 17" Monitor