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器簡介：射頻離子源：用于離子束沉積，離子束輔助沉積，MEMS

射頻原子源：用于合成氧化物，氮化物，氫原子清洗

技術參數：

射頻離子源

安裝法蘭口徑：NW63CF，NW100CF

真空腔體內長度：290mm

真空腔體內端面直徑：57mm， 96mm

兼容氣體：O2， N2， H2， Ar

水冷

射頻功率：30-600W

氣體流量：8-10sccm

束流能量：0.1-1kev

電流密度：可大到5mA/cm2

射頻原子源

安裝法蘭口徑：NW35CF，NW63CF，NW100CF

真空腔體內長度：290mm

真空腔體內端面直徑：34mm，57mm， 96mm

兼容氣體：O2， N2， H2， CH4

水冷

射頻功率：30-600W

氣體流量：0.01-20sccm

主要特點：

無燈絲

安裝容易，可方便地安裝在已有系統上