粉體行業在線展覽
1200℃差溫蒸鍍沉積爐
面議
九所科技
1200℃差溫蒸鍍沉積爐
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該設備主要用于材料科學、物理、化學等領域的實驗研究。用于制備各種功能性薄膜和高性能材料。這些薄膜和材料在半導體、光電子、能源、生物醫學等領域都有重要應用。
該設備采用高純石英元件,具有出色的高溫穩定性,能夠在高溫環境下長時間穩定運行。采用先進的溫度控制系統和可編程程序控溫技術,可以精確控制每個溫區的溫度,確保實驗過程中的溫度穩定性和精確性。且系統采用高效的CVD沉積技術,可以在短時間內制備出高質量的材料和薄膜。該設備還具有完善的安全保護功能,能夠有效地防止實驗過程中可能出現的意外情況。并且可以根據客戶需求進行擴展和升級,滿足不同領域的研究需求。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037