粉體行業在線展覽
面議
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需要在負膠的SU-8實現正膠輪廓??
新產品光刻膠輪廓修改劑帶來了新的契機。
輪廓修改劑直接旋涂在Pre-baked的SU-8光刻膠頂部,降低了光刻膠膜頂部的光靈敏度,取得了正型的側壁。
影響SU-8輪廓效果的原因
1)光刻膠類型及厚度
2)XP TQC膠的厚度
3)曝光量
4)顯影后的去膜量
5)曝光類型(靠近或軟接觸)
正錐形輪廓:
1)在Micro-Molding應用中,實現模具去除步驟
2)需要在結構的頂部和側壁上的后續金屬沉積步驟
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037