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Microchem公司的SU-8 膠是一種負性、環氧樹脂型、近紫外線光刻膠，它適于制超厚、高深寬比的MEMS微結構，適合i線，X-Ray，E-beam曝光。具有非常好的熱穩定性、抗刻蝕性、高分辨率、高深寬等特點。對近紫外350~400nm波段曝光*為敏感。即使在非常厚的光刻膠曝光情況下，曝光均勻一致，可得到具有垂直側壁和高深寬比的厚膜圖形。

SU-8 2000系列的特性

1）厚度范圍，單層涂膠厚度為 0.5 to > 200 μm

2）高深寬比：>10:1

3）更多揮發性溶劑，與傳統去邊工藝兼容

4）降低了極性溶劑含量減小表面張力

5）表面活性成分，改善涂覆效果

應用：MEMS，鈍化層應用LED微流以及光電子器件制作

SU-8 2000系列的屬性

1）旋轉涂層薄膜：<1um to>75um

2）耐高溫、耐化學性

3）光學透明

4）與i-line成像設備兼容

SU-8 3000系列的特性

1）膜厚5-120 um

2）高深寬比：>5:1

3）常用于**性結構制作，較SU-8 2000具有更好的基底粘附力，更不易于在工藝過程中產生內應 力積累

應用：光電器件、微流體、MEMS芯片制作以及作為芯片絕緣、保護層使用

相關溶液：

稀釋劑：SU-8 Thiner

顯影液：SU-8 Developer

去膠液：Remover PG

增附劑：OmniCoat

一般儲存溫度：

4-21°C