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MPCVD設備
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固璽科技
MPCVD設備
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“MPCVD”中文全稱名叫“微波等離子體化學氣相沉積”,MPCVD法的設備是制備高品質金剛石的培育設備。其工作原理是利用微波作為能量來源,在特定的反應氣體條件下激發等離子體進行材料外延生長,微波系統將微波源產生的微波能量以特有的模式經矩形波導輸出,通過模式轉換器耦合進入圓柱形等離子體反應腔,在微波場的作用下,反應氣體被激發為等離子體狀態,等離子體是部分電子被剝奪后的原子及原子團被電離后產生的正負離子組成的離子化氣體狀物質,等離子體呈球狀形成于金剛石襯底上進行外延生長。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037