粉體行業(yè)在線展覽
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方腔式電子束蒸發(fā)鍍膜設備
直接聯(lián)系
北京創(chuàng)世杰科技發(fā)展有限公司
北京
面議
創(chuàng)世杰
方腔式電子束蒸發(fā)鍍膜設備
1008
FC-3800和FC-4400是適用于潔凈室的、真空鎖結(jié)構的系統(tǒng)，專門面向lift-off工藝的大生產(chǎn)應用。這些鍍膜機為連續(xù)高效的運行而設計，并提供高均勻性的薄膜沉積。FC-3800的源基間距為34”（965mm），而FC-4400的源基間距為42”（1067mm）。這兩款系統(tǒng)都可配置成獨立機臺或穿墻式潔凈室安裝，也都支持鍍膜源、材料進給、加熱、清洗等附件的各種組合。
MPCVD微波等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)
氣相沉積設備ATS500
反應離子刻蝕PECVD系統(tǒng)
化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)
方腔式電子束蒸發(fā)鍍膜設備
4900/5700型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
微波等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)MPCVD
真空共晶回流焊爐
AF8500 自動平行封焊機
SM8500 手動平行封焊機
Projection 激光封焊儲能焊機
手套箱系列
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
