粉體行業(yè)在線展覽
SSB500系列步進光刻機
面議
上海微電子
SSB500系列步進光刻機
1806
產(chǎn)品特征
出色的污染防護
全折射式投影物鏡提供了超長工作距,以及封閉式的物鏡和照明系統(tǒng),避免光刻膠等有機物揮發(fā)造成光路污染。
工藝適應(yīng)性強
厚膠曝光時可通過調(diào)整NA來獲得更大焦深,支持高深寬比圖形曝光。擁有獨特的晶圓傳輸系統(tǒng)、垂向大行程工件臺系統(tǒng)和精密調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng),可支持Fan-Out制程中的大翹曲片、鍵合片和厚片曝光工藝。可選配紅外或可見光背面對準(zhǔn)方式,支持TSV和MEMS等制程所需的背面對準(zhǔn)。支持拓展至600mm×600mm方板曝光制程。
高精度
SSB500系列光刻機提供多種投影物鏡和曝光光源配置,分辨率可達(dá)到0.8~2μm,并具有高線寬均勻性。配置高精度MVS對準(zhǔn)系統(tǒng)和低畸變投影物鏡,支持特征圖形標(biāo)記和光柵標(biāo)記,保證了高精度套刻性能。
高產(chǎn)率
SSB500系列光刻機配置了高照度照明系統(tǒng)、高速傳輸系統(tǒng)、高速高精度運動臺系統(tǒng)和大曝光視場,實現(xiàn)高產(chǎn)率,顯著降低客戶擁有成本。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037