粉體行業在線展覽
定制-離子束濺射沉積系統
面議
毅睿/芯壹方
定制-離子束濺射沉積系統
361
離子束濺射沉積系統
Description:
●低壓濺鍍沉積(10-4Torr)
●高質量、平滑、無針孔無針孔薄膜
●可實現<+/-3%的均勻沉積
●增強的附著力和微觀結構控制
●**的覆蓋效果高寬比特征
●獨立控制離子束參數,使用戶能夠設計薄膜以獲得所需的特性
●低能量離子輔助端霍爾離子源
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037