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純化設(shè)備
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實(shí)驗(yàn)室家具
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測(cè)量/計(jì)量?jī)x器
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其他
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建筑工程儀器
鋰電行業(yè)專用測(cè)試系統(tǒng)
農(nóng)業(yè)和食品專用儀器
危險(xiǎn)化學(xué)品檢測(cè)專用儀器
藥物檢測(cè)專用儀器
水平離子濺射鍍膜設(shè)備
面議
杰萊特
水平離子濺射鍍膜設(shè)備
769
工藝參數(shù):
一,真空系統(tǒng)
1、極限真空度:4.0×10-5Pa
2、抽至10Pa所用時(shí)間:≦ 10 分鐘
3、漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec
二,控制精度
1、靶材旋轉(zhuǎn):0.005°
2、工件旋轉(zhuǎn):<1000RPM
3、編碼器: 12000lines;480000Counts/rev
4、膜厚修正板:0.005°
5、擋板: position switch
濺射鍍膜設(shè)備
垂直離子濺射鍍膜機(jī)1
水平離子鍍膜機(jī)
水平離子濺射鍍膜機(jī)
垂直離子濺射鍍膜機(jī)
離子濺射鍍膜設(shè)備
電子槍蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
水平離子濺射鍍膜設(shè)備
垂直離子濺射鍍膜設(shè)備
垂直鍍膜機(jī)
垂直離子鍍膜機(jī)
離子鍍膜設(shè)備
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037