粉體行業(yè)在線展覽
濺射鍍膜設(shè)備
面議
杰萊特
濺射鍍膜設(shè)備
709
型號:IBSH-1030 特點: 1、基板水平放置,垂直監(jiān)控; 2、靶材左右移動,位置和速度可編程控制; 3、基板:12吋×1 或 6吋×4; 4、靶材:兩靶,三靶或四靶可更換; 5、多光路監(jiān)控。 6、無膜厚分布修正板 |
型號:IBSH-1030 特點: 1、基板水平放置,垂直監(jiān)控; 2、靶材左右移動,位置和速度可編程控制; 3、基板:12吋×1 或 6吋×4; 4、靶材:兩靶,三靶或四靶可更換; 5、多光路監(jiān)控。 6、無膜厚分布修正板 | 型號:IBSH-1030 特點: 1、基板水平放置,垂直監(jiān)控; 2、靶材左右移動,位置和速度可編程控制; 3、基板:12吋×1 或 6吋×4; 4、靶材:兩靶,三靶或四靶可更換; 5、多光路監(jiān)控。 6、無膜厚分布修正板 |
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037