粉體行業(yè)在線展覽
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氮化鎵（GaN）MOCVD系統(tǒng)
直接聯(lián)系
上海翱晶半導體科技有限公司
上海
面議
上海翱晶
氮化鎵（GaN）MOCVD系統(tǒng)
813
GaN 6寸/8寸外延爐
EPIREVO G8是日本株式會社東芝的子公司紐富萊（NuFlare）的主要產品之一。
EPIREVO G8通過在在200㎜Si襯底上高質量的高速成膜，
從而降低功率器件和RF器件成本的MOCVD裝置，為實現(xiàn)低碳社會做出貢獻。
高生產性
GaN膜能夠達到9μm/hour以上的高速生長
能夠達到200℃/minute以上的高速升溫
高品質
200mm晶片面內2度以內的**溫度分布
低成本
TMG可以達到20%以上的高利用率
In-Situ清潔功能帶來的高生產效率
混合激光顯微鏡
半導體襯底和外延
KOH腐蝕爐
平坦度測量儀
晶片晶格畸變應力掃描儀
氮化鎵（GaN）MOCVD系統(tǒng)
碳化硅（SiC）外延爐
高精度全自動減薄機
半導體晶片倒角機
半導體晶片倒角測量儀
半導體芯片老化和邏輯測試系統(tǒng)
RIGAKU日本理學新一代形貌檢測系統(tǒng) XRTmicron
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
